SJ/T 11507-2015 集成電路用氧化層緩沖腐蝕液

范圍
本標準規定了集成電路用氧化層緩沖腐蝕液的術語、性狀、技術要求、試驗方法、檢驗規則和包裝、標志、儲存、運輸等。
本標準適用于集成電路用氧化層緩沖腐蝕液。
本標準不涉及使用安全性問題。本標準的使用人應負責建立適當的安全健康條款及使用范圍的限制。

術語和定義
超純硝酸 ultrapure nitric acid
金屬離子含量不大于1μg/L的硝酸。

性狀和技術要求
性狀
本腐蝕液為無色透明液體，呈酸性，是氟化銨與氫氟酸按一定比例混合的緩沖溶液，氟化銨含量允許偏差為±0.4%，氫氟酸含量允許偏差為±0.25%。
技術要求
氧化層緩沖腐蝕液的技術要求應符合表1的規定:






試驗方法
氟化銨和氫氟酸含量的測定
試驗儀器
自動電位滴定儀: 配置氟離子選擇性電極和參比電極。

試劑:
甲醛: 40%。
中性甲醛溶液: 量取20mL甲醛溶液，加20mL水，加2滴酚酞指示劑，用*標準滴定溶液滴定至溶液呈粉紅色。使用前制備。
*溶液: 0.1mol/L。
*標準滴定溶液: c(NaOH)=1mol/L。
酚酞指示劑: 10g/L。

滴定法(仲裁方法)
氫氟酸(HF)含量測定
稱取適量(精確至0.0001g)樣品于已注入10mL純水的帶蓋的塑料燒杯中，加50mL純水及2滴酚酞指示劑，用*標準滴定溶液滴定至溶液微粉紅色，保持30s不褪色。隨樣做空白試驗。
HF含量以質量分數a計，數值以百分含量(%)表示，按式(1)計算:

式中:
V₁ 一一樣品消耗*標準滴定溶液的體積的數值，單位為毫升(mL)；
V₀₁一一空白消耗*標準滴定溶液的體積的數值，單位為毫升(mL)；
c   一一*標準滴定溶液濃度的準確數值，單位為摩爾每升(mol/L)；
0.02001一一與1mL*標準滴定溶液相當的以克表示的氫氟酸的質量，單位為克每毫升(g/mL)；
m₁ 一一試樣質量的數值，單位為克(g)。
兩次平行測定結果之差不大于0.1%，取其算術平均值為測定結果。
氟化銨(NH₄F)含量測定
稱取適量(精確至0.0001g)樣品于已注入10mL純水的帶蓋的塑料杯中，加40mL中性甲醛溶液，搖勻，靜置30min，用*標準滴定溶液滴定至粉紅色，保持30s不褪色。隨樣做空白試驗。
NH₄F含量以質量分數b計，數值以百分含量(%)表示，按式(2)計算:

式中:
a   一一氫氟酸質量分散，百分含量(%)；
V₂ 一一樣品消耗*標準滴定溶液的體積的數值，單位為毫升(mL)；
V₀₂一一空白消耗*標準滴定溶液的體積的數值，單位為毫升(mL)；
c    一一*標準滴定溶液濃度的準確數值，單位為摩爾每升(mol/L)；
0.02001一一與1mL*標準滴定溶液相當的以克表示的氫氟酸的質量，單位為克每毫升(g/mL)；
m₂   一一試樣質量的數值，單位為克(g)；
1.85一一換算系數，無單位。
兩次平行測定結果之差不大于0.1%，取其算術平均值為測定結果。

自動電位滴定法
操作步驟
稱取適量樣品于滴定杯中，精確至0.0001g，加入40mL純水，按照自動電位滴定儀操作規程測定氫氟酸和氟化銨含量。
兩次平行測定結果相對偏差不大于0.5%，取其算術平均值為測定結果。


京都電子KEM 自動電位滴定儀 AT-710S